[发明专利]硅基液晶显示器、硅基液晶显示器反射镜面及制作方法有效
| 申请号： | 200710041098.5 | 申请日： | 2007-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101311802A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 向阳辉;刘艳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种硅基液晶显示器反射镜面的制作方法，包括下列步骤：首先提供带有金属层的硅基底，所述金属层中包含贯穿金属层的沟槽；在金属层上形成绝缘介质层且绝缘介质层填充满沟槽；蚀刻绝缘介质层至露出金属层，形成反射镜面阵列；在金属层上形成金属氧化层；对包含金属层和金属氧化层的硅基底进行热处理。本发明还提供一种硅基液晶显示器反射镜面、硅基液晶显示器及制作方法。在金属层上形成金属氧化层用以保护金属层，使金属层在热处理过程中由于金属氧化层的压制，使金属层中的原子迁移减慢，使反射镜面不会产生凸起，进而提高反射镜面的质量和可靠性，提高反射镜面的反射效果。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示器 反射 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅基液晶显示器反射镜面的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：首先提供带有金属层的硅基底，所述金属层中包含贯穿金属层的沟槽；在金属层上形成绝缘介质层且绝缘介质层填充满沟槽；蚀刻绝缘介质层至露出金属层，形成反射镜面阵列；在金属层上形成金属氧化层；对包含金属层和金属氧化层的硅基底进行热处理。
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