[发明专利]一种微针的制作方法无效
申请号: | 200710039200.8 | 申请日: | 2007-04-06 |
公开(公告)号: | CN101279714A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 洪中山 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;G12B21/02 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种微针的制作方法,涉及采用IC制程的微针的制作方法。传统的微针制作工艺步骤较多、制作成本高,且很难制作出纳米针。本发明的方法包括下列步骤:首先提供一基板,并在基板上形成一微针材料层;接着,对微针材料层进行光刻和刻蚀,形成多个柱形微针;以及对柱形微针进行离子轰击,以形成针尖。采用本发明的方法能够实现纳米级别的微针或微针阵列的制作,且方法简单、制作成本较低。 | ||
搜索关键词: | 一种 制作方法 | ||
【主权项】:
1. 一种微针的制作方法,其特征在于,包括:a)提供一基板,并在基板上形成一微针材料层;b)对微针材料层进行光刻和刻蚀,形成多个柱形微针;以及c)对所述柱形微针进行离子轰击,以形成针尖。
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