[发明专利]基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710017940.1 申请日: 2007-05-29
公开(公告)号: CN101118921A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 丁玉成;刘红忠;叶向东;卢秉恒 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L21/82;G11C11/18
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 李郑建
地址: 710049*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器及制造方法,磁随机存储器为九层或八层结构形式,主要包括四层功能层:霍尔器件层、图形化磁性介质层、环形位导线层和字导线层,上述四个器件的中心精确对准。八层结构在九层结构的基础上,去掉图形化磁性介质层。该磁随机存储器的存储单元尺度为纳米级,可大幅度提高存储密度。对于九层结构的磁随机存储器制作方法采用霍尔器件、图形化磁性介质、环形位导线层和字导线层纳米结构图形的三个透明模版,利用紫外固化纳米压印技术,分四次在负性光刻胶上依次复制出四种器件的图形;在每次淀积器件材料后,用剥离法溶解光刻胶,即得到器件;对于八层结构,只要去掉图形化磁性介质的相应制作步骤即可。
搜索关键词: 基于 霍尔 效应 超高 密度 随机 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器,包括一基底,其特征在于,在基底上方依次设有电绝缘层、霍尔器件层、电绝缘层、位导线层、电绝缘层、字导线层、电绝缘层;所述的霍尔器件层上的霍尔器件为有磁滞效应的记忆型器件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710017940.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top