[发明专利]成膜设备、成膜方法和发光元件的制造方法无效
| 申请号： | 200710005220.3 | 申请日： | 2007-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101016618A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;坂田淳一郎;山本孔明;片山视喜;横山浩平;松原里枝;川上贵洋 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/06;C23C14/54;H01L21/02;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;刘宗杰 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种用于形成具有减少的缺陷的膜的成膜方法，以及提供一种用于形成具有均匀质量的膜的成膜方法。此外，另一目的在于提供一种能够以低压驱动的发光元件的制造方法。此外，另一目的在于提供一种具有高发光效率的发光元件的制造方法。可以通过下述步骤形成具有减少的缺陷以及具有均匀的质量的膜：将基板固定至基板紧固单元，以暴露所述基板的至少一部分表面；使气相淀积材料从填充了所述气相淀积材料的蒸发源中蒸发；采用激光束照射所述的蒸发的气相淀积材料；以及在所述基板的所述表面上淀积所述气相淀积材料。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 方法 发光 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种成膜设备，包括：成膜室，其包括填充了气相淀积材料的蒸发源和基板紧固单元，所述基板紧固单元固定基板，从而暴露所述基板的至少一部分表面；以及发射激光束的激光束照射单元，其中，提供所述激光束照射单元，用于采用所述激光束照射所述基板的所述暴露表面。
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