[发明专利]成膜设备、成膜方法和发光元件的制造方法无效
| 申请号： | 200710005220.3 | 申请日： | 2007-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101016618A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;坂田淳一郎;山本孔明;片山视喜;横山浩平;松原里枝;川上贵洋 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/06;C23C14/54;H01L21/02;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;刘宗杰 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 设备 方法 发光 元件 制造 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所，未经株式会社半导体能源研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710005220.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
