[发明专利]化学气相沉积装置及方法无效

专利信息
申请号: 200680055853.9 申请日: 2006-07-28
公开(公告)号: CN101511903A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 望月励;井上崇;上武一孝 申请(专利权)人: 第三化成株式会社;吉世科有限公司
主分类号: C08G61/02 分类号: C08G61/02;C23C16/44
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张 萍;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种化学气相沉积装置,包括:填充气相沉积原料的填充部(10);分解气相沉积原料的分解炉(2);连结填充部(10)和分解炉(2)的开关阀(4);使分解炉(2)中分解的气相沉积原料聚合,并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部(3),其中,使填充到填充部(10)的气相沉积原料汽化,通过打开开关阀(4)将所述汽化的气相沉积原料供应到分解炉(3),形成涂膜。
搜索关键词: 化学 沉积 装置 方法
【主权项】:
1. 化学气相沉积装置,其特征在于,包括:填充气相沉积原料的填充部;分解所述气相沉积原料的分解炉;连结所述填充部和所述分解炉的开关阀;和使所述分解炉中分解的气相沉积原料聚合,并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部,使填充到所述填充部的气相沉积原料汽化,通过打开所述开关阀将所述汽化的气相沉积原料供应到所述分解炉,形成所述涂膜。
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