[发明专利]紫外线活化的抗微生物表面无效

专利信息
申请号: 200680053359.9 申请日: 2006-11-06
公开(公告)号: CN101490303A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 特伦斯·S·麦格拉思;戴德雷·休厄尔;丹尼尔·M·斯托里 申请(专利权)人: 变色龙科学公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/00;C23C14/34
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李丙林
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种适于用高粘附性抗微生物膜涂布聚合物表面的离子等离子体沉积(IPD)方法。受控的离子等离子体沉积(IPD)工艺用来以选定的金属/金属氧化物涂布金属或聚合物。将涂布的表面暴露于紫外光可显著提高沉积涂层的抗微生物性能。
搜索关键词: 紫外线 活化 微生物 表面
【主权项】:
1. 一种用于制造高粘附性抗微生物涂层的方法,包括:在所选基底上沉积基本上无大颗粒的第一金属涂层;沉积大颗粒密集的第二金属涂层以在所述第一涂层上形成表面层;以及将所述表面层暴露于在120-400nm范围内的紫外光下;其中所述金属涂层在氧气氛下通过离子等离子体沉积进行沉积,其中控制所述氧气氛以调整所述第一和第二层内的大颗粒密度。
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