[发明专利]紫外线活化的抗微生物表面

权利要求书

1.一种用于制造高粘附性抗微生物涂层的方法，包括：

在所选基底上沉积基本上无大颗粒的第一金属涂层；

沉积大颗粒密集的第二金属涂层以在所述第一涂层上形成表面层；以及

将所述表面层暴露于在120-400nm范围内的紫外光下；

其中所述金属涂层在氧气氛下通过离子等离子体沉积进行沉积，其中控制所述氧气氛以调整所述第一和第二层内的大颗粒密度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层金属选自由银、金、铂、铜、钽、钛、锆、铪和锌组成的组。

3.根据权利要求1所述的方法，其中通过调整基底固定物与阴极电弧靶之间的距离来控制所述金属在所述基底上的沉积。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属沉积通过改变所述电弧在所述靶表面上的速度来控制。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层金属是银、铜或钛。

6.根据权利要求1所述的方法，其中选择在200-400nm范围内的紫外光频率用于所述涂层金属。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是选自由聚丙烯、聚氨酯、PTFE、聚酰亚胺、聚酯、PEEK、UHMWPE和尼龙组成的组中的聚合物。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是选自由钽、钛、锆、铪、硅、铁、钴、铬、锌、合金及它们的组合所组成的组中的金属。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是玻璃。

8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括在所述离子等离子体气相沉积的过程中提供臭氧。

9.根据权利要求1所述的方法，其中涂层厚度在约100nm至1微米之间。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属涂层暴露于UV光是在沉积过程中。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属涂层暴露于UV光是在沉积之后。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层包括Ti、TiO和TiO₂。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层包括Cu、CuO和Cu₂O。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层包括Ag、AgO和Ag₂O。

15.一种用抗微生物活性金属/金属氧化物离子等离子体沉积层涂布的医疗装置，其中所述层包括嵌入的基本上无大颗粒的下层和表面沉积的紫外活化大颗粒密集层。

16.根据权利要求15所述的医疗装置，其选自由支架、导管、瓣膜和植入物组成的组。

17.根据权利要求15所述的医疗装置，其包含聚合物材料。

18.根据权利要求15所述的医疗装置，其包含金属。

19.根据权利要求15所述的医疗装置，其中涂层厚度达到约30微米。

20.根据权利要求15所述的医疗装置，其中所述涂层包含选自由Ag/AgO/Ag₂O、Cu/CuO/Cu₂O、Ti/TiO/TiO₂及它们的组合所组成的组中的金属/金属氧化物。