[发明专利]反射型光掩模基板及其制造方法、反射型光掩模、半导体器件的制造方法

摘要

反射型光掩模基板(10)包括：衬底(1)、在衬底(1)上形成并反射曝光用光的多层反射膜(2)、在多层反射膜(2)上形成并保护多层反射膜(2)的保护膜(3)、在保护膜(3)上并吸收曝光用光的吸收体层(5)、在吸收体层(5)和保护膜(3)之间形成并对吸收体层(5)的曝光转印图案形成时进行的蚀刻有抗腐蚀性的缓冲膜(4)，保护膜(3)是含Zr和Si的化合物、或是含Zr和Si以及O或N中的至少任意一种的化合物、或是含Ru、C、或Y中的至少任意一种的单质或化合物。

主权项

1.一种反射型光掩模基板，其特征在于，包括：衬底，多层反射膜，其形成在该衬底上，用于反射曝光用光，保护膜，其形成在该多层反射膜上，用于保护该多层反射膜，吸收体层，其在该保护膜上吸收上述曝光用光，缓冲膜，其形成在该吸收体层和上述保护膜之间，对于在形成上述吸收体层的曝光转印图案时所进行的蚀刻具有抗腐蚀性；其中上述保护膜是含有Zr和Si的化合物，或是含有Zr和Si，以及O或N中的至少任意一种的化合物，或是含有Ru、C或Y中的至少任意一种的单质或化合物。