[发明专利]图案形成装置和图案形成方法无效
| 申请号： | 200680052016.0 | 申请日： | 2006-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN101336169A | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 细矢雅弘;石井浩一;真常泰;齐藤三长;高桥健;八木均;田岛义浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B41M1/42 | 分类号： | B41M1/42;B41F9/00;B41M1/10;G03G15/05;G03G15/10;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 图案形成装置(10)具有含凹部造成的图案的凹版(1)；将含荧光体粒子的液体显像剂供给凹版的图案并形成第1电位差，从而使荧光体粒子凝集在凹部进行显像的显像装置(2a、2g、2b)；以及使显像后的凹版与玻璃板(M)对置的状态下形成第2电位差，并将由各显像装置汇集在凹版的凹部的荧光体粒子依次复制到玻璃板(M)的复制滚筒(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种图案形成装置，其特征在于，具有：在带有导电性的基体的表面含高电阻层，并含从该高电阻层的表面往所述基体下陷的凹部造成的图案的凹版；通过与所述高电阻层的表面对置的供给构件，供给使带电的显像剂粒子散布在绝缘性液体中的液体显像剂，并在此供给构件与所述基体之间形成第1电位差，从而将所述液体显像剂中的所述显像剂粒子汇集在所述凹部内进行显像的显像装置；以及复制装置，该复制装置在使被复制媒体接近所述凹部内汇集所述显像剂粒子的所述高电阻层的表面并与其对置的状态下，此被复制媒体与所述基体之间形成第2电位差，从而将汇集在所述凹部内的所述显像剂粒子复制到该被复制媒体。
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