[发明专利]图案形成装置和图案形成方法无效
| 申请号： | 200680052016.0 | 申请日： | 2006-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN101336169A | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 细矢雅弘;石井浩一;真常泰;齐藤三长;高桥健;八木均;田岛义浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B41M1/42 | 分类号： | B41M1/42;B41F9/00;B41M1/10;G03G15/05;G03G15/10;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 方法 | ||
1、一种图案形成装置，其特征在于，具有：
在带有导电性的基体的表面含高电阻层，并含从该高电阻层的表面往所 述基体下陷的凹部造成的图案的凹版；
通过与所述高电阻层的表面对置的供给构件，供给使带电的显像剂粒子 散布在绝缘性液体中的液体显像剂，并在此供给构件与所述基体之间形成 第1电位差，从而将所述液体显像剂中的所述显像剂粒子汇集在所述凹部 内进行显像的显像装置；以及
复制装置，该复制装置在使被复制媒体接近所述凹部内汇集所述显像剂 粒子的所述高电阻层的表面并与其对置的状态下，此被复制媒体与所述基 体之间形成第2电位差，从而将汇集在所述凹部内的所述显像剂粒子复制 到该被复制媒体。
2、如权利要求1中所述的图案形成装置，其特征在于，
所述凹部的底露出在所述基体的表面。
3、如权利要求2中所述的图案形成装置，其特征在于，
还具有通过所述供给构件将所述液体显像剂供给所述高电阻层的表面 前，使该表面带电成所述显像剂粒子不附着的电位的带电装置。
4、如权利要求3中所述的图案形成装置，其特征在于，
还具有局部去除包含通过所述供给构件供给所述高电阻层的表面的所 述液体显像剂中未汇集在所述凹部内的所述显像剂粒子的绝缘性液体，并 将液体显像剂的量控制为适当的量的去除装置。
5、如权利要求4中所述的图案形成装置，其特征在于，
所述去除装置在使所述被复制媒体接近所述高电阻层的表面并与其对 置的状态下，按所述液体显像剂接触该被复制媒体的程度，去除所述绝缘 性液体。
6、如权利要求1中所述的图案形成装置，其特征在于，
还具有使该高电阻层的表面与该被复制媒体接近到通过所述供给机构 供给所述高电阻层的所述表面的所述液体显像剂接触所述被复制媒体的程 度并对置，并且复制后使该被复制媒体与该高电阻层的表面分开的拢近分 离装置。
7、如权利要求6中所述的图案形成装置，其特征在于，
所述拢近分离装置将所述被复制媒体以逐渐接触的方式接近供给所述 高电阻层的表面的所述液体显像剂，以免供给所述高电阻层的表面的所述 液体显像剂产生紊流，并且在复制后使所述液体显像剂与所述被复制媒体 逐渐分开，以免在所述高电阻层的表面与所述被复制媒体之间介入并进行 接触的所述液体显像剂产生紊流。
8、如权利要求1中所述的图案形成装置，其特征在于，
将所述凹版的基体形成圆筒形的鼓状。
9、如权利要求1中所述的图案形成装置，其特征在于，
将所述被复制媒体形成圆筒形。
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