[发明专利]中空二氧化硅微粒、含有该微粒的透明涂膜形成用组合物、及覆有透明涂膜的基材有效
| 申请号： | 200680043928.1 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101312909A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 末吉亮太;村口良;松田政幸;熊泽光章;平井俊晴 | 申请（专利权）人： | 触媒化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;C09D7/12;C09D201/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可抑制透明涂膜泛白、可发挥优异的耐划擦性或密合性的中空二氧化硅微粒和其制造方法。本发明涉及一种通过动态光散射法测定的平均粒径为5～300nm、比表面积为50～1500m2/g、外壳的内部形成空洞的中空二氧化硅微粒，通过进行热重量测定(TG)，在200℃～500℃的温度范围内显示出1.0重量％以上的重量减少。另外，此中空二氧化硅微粒在200℃～500℃的温度范围内的差热分析测定(DTA)中具有正的DTA峰。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 二氧化硅 微粒 含有 透明 形成 组合 基材 | ||
【主权项】：
1、一种中空二氧化硅微粒，所述中空二氧化硅微粒通过动态光散射法测定的平均粒径为5～300nm，比表面积为50～1500m2/g，外壳的内部形成空洞，其特征在于，通过进行热重量测定TG，在200℃～500℃的温度范围内显示出1.0重量％以上的重量减少。
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