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[发明专利]透明被膜形成用的涂布液及其制造方法、有机树脂分散溶胶、以及带透明被膜的基材及其制造方法-CN201580017788.X有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良;平井俊晴 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： C09D201/00 文献下载
摘要：本发明提供一种即使基材是树脂基材也硬度高、即使为厚膜也膜收缩小、且没有裂纹、翘曲受到抑制、硬度高的透明被膜。本发明的透明被膜形成用的涂布液是含有平均粒径在5～300nm范围内的金属氧化物粒子和基质形成成分的透明被膜形成用的涂布液，基质形成成分由具有2个以下官能团的第一有机树脂和具有3个以上官能团的第二有机树脂构成，金属氧化物粒子的浓度(CP)以固体成分计为45～90重量％，基质形成成分的浓度(CR)以固体成分计为10～50重量％，总固体成分浓度(CT)在60重量％以上，浓度(CR)与浓度(CP)之比(CR/CP)在0.11～1.0的范围内。
透明形成涂布液及其制造方法有机树脂分散溶胶以及基材

[发明专利]用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造方法-CN201580008556.8有效
发明人：二神涉;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： C09D201/00 文献下载
摘要：本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03～70重量％，涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(C_P)以固体成分计在0.0009～56重量％的范围内，树脂乳液的浓度(C_R)以固体成分计在0.006～68重量％的范围内。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me₂O，Me＝Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布，也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。
用于形成透明涂布液以及具有基材制造方法

[发明专利]改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元-CN201410200714.7有效
发明人：二神涉;松田政幸;村口良;平井俊晴 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2014-05-13 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： C09C1/28 文献下载
摘要：本发明涉及改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元。本发明可实现耐候性高的功能性薄膜。为此，使用包含在表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的涂布液，来制备薄膜。这里，低聚物是分子量为1000～10000、单体结合后的形态。表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的耐酸性高，包含该二氧化硅微粒的薄膜致密、耐候性高。此外，作为涂布液的粘合剂成分，使用4官能的有机硅化合物。构成低聚物的有机硅化合物与粘合剂成分的有机硅化合物可以是相同的化合物，也可以是不同的化合物。特别是使用二氧化硅中空微粒等低折射率的微粒，可制备防反射膜。
改性二氧化硅微粒及其制造方法薄膜形成涂布液基材以及光电单元

[发明专利]附有硬质涂膜的基材和硬质涂膜形成用涂布液-CN201310728112.4有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良;平井俊晴 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C09D7/61 文献下载
摘要：本发明提供了一种附有硬质涂膜的基材，该硬质涂膜具有防粘连性、同时翘曲得以抑制。本发明所涉及的附有硬质涂膜的基材的特征在于，由基材和形成于该基材上的硬质涂膜构成，该硬质涂膜由（i）金属氧化物微粒（A）簇（CL）、（ii）基质成分和（iii）簇形成剂构成，至少一部分簇（CL）以在硬质涂膜表面形成凸部的形式存在，该硬质涂膜具有15～200nm的高度范围内的凸部（H凸）。此外，本发明所涉及的硬质涂膜形成用涂布液的特征在于，包含金属氧化物微粒（A）、基质形成成分、簇形成剂和分散介质，且所述金属氧化物微粒（A）浓度（CA）以固体成分计在0.025～48重量份的范围内，所述基质形成成分的浓度（CM）以固体成分计在1～59.7重量份的范围内，所述簇形成剂的浓度（CCL）以固体成分计在0.0005～6重量％的范围内，总固体成分浓度在1～60重量％的范围内，金属氧化物微粒（A）形成簇（CLP）。
附有硬质基材形成用涂布液

[发明专利]透明被膜形成用涂布液及具有透明被膜的基材-CN201710111078.4在审
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： C09D4/02 文献下载
摘要：本发明涉及透明被膜形成用涂布液及具有透明被膜的基材。本发明提供可形成即使为薄基材时卷曲也能被抑制、且硬度及耐擦伤性高的透明被膜的涂布液。该涂布液包含经表面处理的金属氧化物粒子、环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂和有机溶剂。环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂是(甲基)丙烯酸酯官能团数为3～10、环氧烷烃基团数为3～40的多官能丙烯酸酯单体树脂。上述金属氧化物粒子中，相对于100质量份金属氧化物粒子，含有以Rn‑SiO(4‑n)/2计为0.1～50质量份的有机硅化合物。上述金属氧化物粒子具有5～500nm的平均粒径，且以相对于环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂与经表面处理的金属氧化物粒子的固态成分的总量为30～90质量％的量被包含在涂布液中。
透明形成用涂布液具有基材

[发明专利]带防反射膜的基材的制造方法及光电池-CN201310256586.3有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-06-25 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。
反射基材制造方法光电池

[发明专利]改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法-CN201310014575.4有效
发明人：山口纯;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-01-15 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： C01G25/02 文献下载
摘要：本发明提供分散性、流动性优异的改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法，该粉末是经有机硅化合物表面处理的改性氧化锆微粒的粉末，其特征在于，平均二次粒径(DM2)在5～500nm的范围、平均一次粒径(DM1)在5～500nm的范围、平均二次粒径(DM2)与平均一次粒径(DM1)之比(DM2)/(DM1)在1～10的范围。所述有机硅化合物为下式(1)表示的有机硅化合物，该微粒中的有机硅化合物的含量以Rn‑SiO(4‑n)/2(n为1～3的整数)计为1～50重量%的范围，29Si MAS NMR谱的主峰的半宽度在3～15ppm的范围。Rn‑SiX4‑n (1)(式中，R为碳数1～10的非取代或取代烃基，可以互相相同或不同。X碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢，n1～3的整数)。
改性氧化锆微粒粉末分散溶胶及其制造方法

[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带该透明被膜的基材-CN201110428362.7有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： C09D183/00 文献下载
摘要：本发明提供用于形成平坦性高、耐白化性、耐水性、耐化学品性等优良的透明被膜的涂布液及带该透明被膜的基材。透明被膜形成用涂布液是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂，且均化剂的含量以固体成分计在0.001～7.2重量％的范围。带透明被膜的基材由基材和形成于基材上的透明被膜构成，该透明被膜由基质成分和金属氧化物微粒形成，还含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂，该基质成分的含量以固体成分计在20～99.5重量％的范围，该金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.5～80重量％的范围。
透明形成用涂布液基材

[发明专利]带有拒水性透明被膜的基材及其制造方法-CN201380067551.3有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良;江上和孝;小柳嗣雄;熊泽光章;吉田聪;俵迫祐二 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-12-24 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供拒水性高、与基材的密合性、耐磨损性、耐擦伤性等提高了的拒水性透明被膜。一种带有拒水性透明被膜的基材，其特征是，由基材、和该基材表面的拒水性透明被膜构成，上述拒水性透明被膜由包含无机氧化物微粒的无机氧化物微粒层、和该无机氧化物微粒层上的保护涂层构成，拒水性透明被膜表面具有凹凸结构，该凸部的平均高度(T_F)在30～500nm的范围，平均凸部间距离(间距宽度)(W_F)在50～1000nm的范围，与水的接触角在130～180°的范围。上述平均高度(T_F)和上述平均凸部间距离(W_F)的比值(T_F)/(W_F)在0.1～10的范围。上述凹凸结构的凸部的表面还具有微细凹凸，该微细凸部的平均高度(T_FF)在3～50nm的范围，平均凸部间距离(W_FF)比上述凸部的平均凸部间距离(W_F)小，且在3～50nm的范围。
带有水性透明基材及其制造方法

[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材-CN201310428948.2在审
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-09-18 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： C09D7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种透明被膜形成用涂布液，该透明被膜形成用涂布液用于形成折射率从下层往上层逐渐降低、光透射率、透明性优异、具有防静电·防反射性能的透明被膜。该透明被膜形成用涂布液由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成；表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10～200nm的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2～30个平均粒径(DB)在5～20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10-2～100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子，表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05～35重量％的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025～25重量％的范围内；基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1～42.5重量％的范围内；总固体成分浓度在0.5～50重量％的范围内。
透明形成用涂布液基材

[发明专利]硅铝溶胶的制造方法、硅铝溶胶、含有该溶胶的透明被膜形成用涂料及带有透明被膜的基材-CN201080051797.8有效
发明人：二神涉;箱嶋夕子;松田政幸;村口良 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2010-11-15 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： C01B33/149 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在高浓度下也稳定的、在基质成分中的分散性良好的硅铝溶胶及其制造方法。除去硅铝溶胶中存在的来自制造原料的阳离子(碱金属离子)，同时减少夹杂离子，将表面负电荷量调节在规定范围内，使用由此得到的二氧化硅·氧化铝粒子，使有机硅化合物预先吸附在粒子表面之后进行水解，从而进行表面处理。
溶胶制造方法含有透明形成涂料带有基材

[发明专利]透明被膜形成用涂布液以及带透明被膜的基材-CN201110212725.3有效
发明人：村口良;松田政幸;平井俊晴;小松通郎;箱嶋夕子 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2011-07-19 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C09D133/00 文献下载
摘要：本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。
透明形成用涂布液以及基材

[发明专利]带硬涂膜的基材及硬涂膜形成用涂布液-CN200810215004.6有效
发明人：村口良;熊泽光章;二神涉;俵迫祐二;松田政幸;平井俊晴 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2008-08-29 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C09D7/12 文献下载
摘要：本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒，在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时，其值在-120～-10mV的范围内，条件(1)：改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量％，条件(2)：改性氧化锆微粒分散液的pH在2～13的范围内。
带硬涂膜基材硬涂膜形成用涂布液

[发明专利]中空二氧化硅微粒、含有该微粒的透明涂膜形成用组合物、及覆有透明涂膜的基材-CN200680043928.1有效
发明人：末吉亮太;村口良;松田政幸;熊泽光章;平井俊晴 -专利权人：触媒化成工业株式会社
申请日： 2006-11-17 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明提供一种可抑制透明涂膜泛白、可发挥优异的耐划擦性或密合性的中空二氧化硅微粒和其制造方法。本发明涉及一种通过动态光散射法测定的平均粒径为5～300nm、比表面积为50～1500m²/g、外壳的内部形成空洞的中空二氧化硅微粒，通过进行热重量测定(TG)，在200℃～500℃的温度范围内显示出1.0重量％以上的重量减少。另外，此中空二氧化硅微粒在200℃～500℃的温度范围内的差热分析测定(DTA)中具有正的DTA峰。
中空二氧化硅微粒含有透明形成组合基材

[发明专利]透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材-CN200710307345.1无效
发明人： 松田政幸;熊泽光章;平井俊晴 -专利权人：触媒化成工业株式会社
申请日： 2007-12-27 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： C09D7/12 文献下载
摘要：本发明提供可以通过将透明被膜形成用涂料1次涂布并干燥而形成与基材的密合性、强度等良好的同时，防反射性能和防眩性能良好，且生产性和经济性也良好的透明被膜的透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材。所述透明被膜形成涂料是由与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成的透明被膜形成涂料，其特征在于，低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理，经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(n_A)在1.20～1.45的范围内，平均粒径在5～200nm的范围内，表面电荷量(Q_A)在5～80μeq/g的范围内，经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(n_B)比(n_A)高，平均粒径在0.5～5μm的范围内，表面电荷量(Q_B)在25～100μeq/g的范围内，低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，基体形成成分的以固体成分计的浓度在1～30重量％的范围内。
透明形成涂料基材

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