[发明专利]用于利用远程等离子体源的大面积等离子体增强化学气相沉积装置的清洗器具无效
申请号: | 200680038561.4 | 申请日: | 2006-10-13 |
公开(公告)号: | CN101292059A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
发明(设计)人: | F·法马基斯;M·埃尔雅考比;B·里奥;E·乔马斯;M·伊尔齐克;J·库德拉 | 申请(专利权)人: | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01J37/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 列支敦士*** | 国省代码: | 列支敦士登;LI |
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摘要: | 本发明描述了一种用于清洗沉积室的方法,所述方法与大面积沉积是相容的。所述方法包括通过至少两个注射点且在用于反应性物质的等同路径上以均匀的方式将被活化的气体从远程等离子体源输送至所述室中的区域。一种相应的用于分布被活化的反应性气体的气体注射系统包括反应性气体源、用于分布所述气体的管道以及可抽真空的室。所述气体被排放至所述管道,所述管道具有被结构性地连接至所述源的至少一个入口以及通往所述室的至少两个出口,由此形成了至少部分独立的管道分支,其中在入口与每个相应的出口之间计算出的每条管道分支的长度以及与气体流垂直的横截面是基本上相等的。 | ||
搜索关键词: | 用于 利用 远程 等离子体 大面积 增强 化学 沉积 装置 清洗 器具 | ||
【主权项】:
1、一种用于对被构造成用于1平方米或更大面积的基底的真空沉积装置进行清洗的方法,所述方法包括:通过至少两个注射点以均匀的方式将被活化的气体从远程等离子体源输送至室内,其中用于所述被活化的气体的路径是等同的。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的