[发明专利]新型哌啶衍生物有效

专利信息
申请号: 200680026949.2 申请日: 2006-05-29
公开(公告)号: CN101228127A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 石川史步;佐藤长明;长濑刚;鴇田滋;和田俊博;高桥秀和 申请(专利权)人: 万有制药株式会社
主分类号: C07D211/22 分类号: C07D211/22;A61K31/438;A61K31/444;A61K31/4545;A61K31/465;A61K31/5386;A61P1/16;A61P3/00;A61P3/04;A61P3/06;A61P3/10;A61P5/48;A61P9/00;A61P9/0
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴娟;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具有拮抗组胺和组胺H3受体结合的作用或抑制组胺H3受体所具有的稳态活性的物质。即提供式(I)表示的化合物或其药学上可接受的盐。式中,R1表示可被取代的苯基等,R2表示可被取代的氰基等,或者R1和R2一起形成可被取代的脂族杂环,R3表示式(II-1)(式中,R4和R5表示低级烷基等,m1表示2~4的整数),X1~X4均表示碳原子等。
搜索关键词: 新型 哌啶 衍生物
【主权项】:
1.式(1)表示的化合物或其药学上可接受的盐:式中,R1表示可具有1~3个选自取代基组α的基团的芳基;具有1~3个选自氮原子、硫原子和氧原子的杂原子,可具有1~3个选自取代基组α的基团的5~6元杂芳基;可具有1~3个选自取代基组α的基团的杂芳基烷基;可具有1~3个选自取代基组α的基团的芳烷基;或可具有1~3个选自取代基组α的基团的芳基羰基;这里,上述杂芳基可以与苯基或吡啶基形成稠环;R2表示芳基;具有1~3个选自氮原子、硫原子和氧原子的杂原子的杂芳基;氰基;低级烷基;低级烷氧基;或羟基;或者R1和R2一起形成具有1~3个选自氮原子、硫原子和氧原子的杂原子的5~6元脂族杂环基,或者该脂族杂环基进一步与苯基或吡啶基形成稠环,该脂族杂环基可具有1~2个选自取代基组β的相同或不同基团,与该脂族杂环基稠合的苯基或吡啶基可以具有1~2个选自取代基组γ的相同或不同基团;R3表示a)式(II-1)表示的基团:式中,R4和R5可以相同或不同,表示可被卤素原子取代的低级烷基或可被卤素原子取代的环烷基,或者R4、R5和氮原子一起形成5~8元单环或6~8元双环,该单环可以具有可被卤素原子取代的低级烷基、卤素原子或氧代基作为取代基,m1表示2~4的整数,-(CH2)m1-中的氢原子可以被碳原子数为1~3的低级烷基取代,b)式(II-2)表示的基团:式中,R6表示低级烷基或环烷基,m2表示0~4的整数,或c)式(II-3)表示的基团:式中,R7和R8可以相同或不同,表示可被卤素原子取代的低级烷基或可被卤素原子取代的环烷基,或者R7、R8和氮原子一起形成5~8元单环或6~8元双环,该单环可以具有可被卤素原子取代的低级烷基、卤素原子或氧代基作为取代基,m3表示0~4的整数;X1~X4均表示碳原子,或者表示X1~X4中的1个或2个为氮原子,其余为碳原子,且X1~X4为碳原子时,X1~X4可被下述取代基取代:可被卤素原子或低级烷氧基取代的低级烷基、可被卤素原子或低级烷氧基取代的环烷基、可被卤素原子或低级烷氧基取代的低级烷氧基、氰基或卤素原子;取代基组α:可被卤素原子取代的低级烷基、可被卤素原子取代的低级烷氧基和卤素原子,取代基组β:卤素原子;氧代基;可被卤素原子或低级烷氧基取代的低级烷基;可被卤素原子或低级烷氧基取代的低级烷氧基;可被氧代基或低级烷基取代、且环内可具有1或2个双键的5或6元含氮脂族杂环;芳烷基;杂芳基烷基;低级烷基磺酰基;环烷基磺酰基;芳基;和杂芳基,上述芳烷基、杂芳基烷基、低级烷基磺酰基、环烷基磺酰基、芳基和杂芳基可被下述取代基取代:可被低级烷氧基或卤素原子取代的低级烷基、可被低级烷氧基或卤素原子取代的环烷基、可被卤素原子取代的低级烷氧基(当具有2个该低级烷氧基时,它们可一起形成5或6元环)、卤素原子、氰基、羟基、烷基磺酰基、环烷基磺酰基、芳基、杂芳基、烷基氨基羰基、链烷酰基氨基、烷基氨基或二烷基氨基,取代基组γ:可被低级烷氧基或卤素原子取代的低级烷基、可被卤素原子取代的低级烷氧基和卤素原子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于万有制药株式会社,未经万有制药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680026949.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top