[发明专利]化学增强型光刻胶组合物无效

专利信息
申请号: 200610162068.5 申请日: 2003-09-09
公开(公告)号: CN1963667A 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 高田佳幸;吉田勋;中西弘俊 申请(专利权)人: 住友化学工业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 日本大阪市中*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种化学增强型正光刻胶组合物,它含有(A)分子式(VIb)的化合物:(B)一种树脂,该树脂含有对酸不稳定的基团的结构单元,和它本身不溶或微溶于碱性水溶液,但通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液,和(C)分子式(I)的产酸剂。
搜索关键词: 化学 增强 光刻 组合
【主权项】:
1.一种化学增强型正光刻胶组合物,它含有(A)分子式(VIb)的化合物:其中A表示任选地被取代的脂环烃基,X表示具有1-4个碳原子的亚烷基或单键,R15和R16各自独立地表示H、具有1-12个碳原子的烷基、具有3-12个碳原子的环烷基、具有1-12个碳原子的卤代烷基、具有2-12个碳原子而且除了键合到相邻基团上的-CH2-之外的至少一个-CH2-被-S-或-O-取代的烷基,具有1-12个碳原子的烷氧基或任选地被取代的芳基,和n表示1-5的整数,条件是若n为2或更高,则在分子式(VIb)内的各-X-CO-NR15R16可不同,(B)一种树脂,该树脂含有对酸不稳定的基团的结构单元,和它本身不溶或微溶于碱性水溶液,但通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液,和(C)分子式(I)的产酸剂:其中Q1,Q2,Q3,Q4和Q5各自独立地表示H、羟基、具有1-12个碳原子的烷基、具有1-12个碳原子的烷氧基或吸电子基团,和Z+表示分子式(Va)、(Vb)或(Vc)的基团,分子式(Va)的基团:其中P1,P2和P3各自独立地代表H、羟基、具有1-6个碳原子的烷基或具有1-6个碳原子的烷氧基;分子式(Vb)的基团:其中P4和P5各自独立地代表H、羟基、具有1-6个碳原子的烷基或具有1-6个碳原子的烷氧基;分子式(Vc)的基团:其中P6和P7各自独立地代表具有1-6个碳原子的烷基或具有3-10个碳原子的环烷基,或P6和P7键合,形成具有3-7个碳原子的二价无环烃,它与相邻的S+一起形成环,和在该二价无环烃中的至少一个-CH2-可被-CO-、-O-或S-取代;P8代表H;P9代表具有1-6个碳原子的烷基、具有3-10个碳原子的环烷基或任选地被取代的芳基,或P8和P9键合,与相邻的-CHCO-一起形成2-氧环烷基。
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