[发明专利]晶片级芯片封装工艺有效

专利信息
申请号: 200610160705.5 申请日: 2006-11-29
公开(公告)号: CN101192549A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 许健豪 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 李光松
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种晶片级芯片封装工艺,其包括下列步骤:首先,提供具有一芯片密合层以及一透光层的一透光基板。然后,切割芯片密合层,以形成一预定深度的第一凹槽,并形成一胶体于芯片密合层上。接着,提供具有一背面以及一有源表面的一晶片,并将透光基板配置于晶片的有源表面上,而芯片密合层是由胶体以接合于有源表面。接着,切割透光层,以形成一预定深度的第二凹槽,其中第二凹槽对应于第一凹槽。接着,再切割晶片的背面,以形成一预定深度的第三凹槽,而第三凹槽亦是对应于第一凹槽。之后,单颗化晶片及透光基板,以形成多个芯片封装结构。
搜索关键词: 晶片 芯片 封装 工艺
【主权项】:
1.一种晶片级芯片封装工艺,包括下列步骤:提供一透光基板,该透光基板具有一芯片密合层以及一透光层;切割该芯片密合层,以形成一预定深度的第一凹槽;形成一胶体于该芯片密合层上;提供一晶片,该晶片具有一背面以及一有源表面;配置该透光基板于该晶片的该有源表面上,而该芯片密合层以该胶体接合于该有源表面;切割该透光层,以形成一预定深度的第二凹槽,该第二凹槽对应于该第一凹槽;切割该晶片的该背面,以形成一预定深度的第三凹槽,该第三凹槽对应于该第一凹槽;以及单颗化该晶片及该透光基板,以形成多数个芯片封装结构。
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