[发明专利]III族氮化物半导体发光装置无效

专利信息
申请号: 200610146401.3 申请日: 2006-11-13
公开(公告)号: CN1967954A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 杉浦胜己 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343;H01S5/323;H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种阈值电流低、且具有高的可靠性的III族氮化物半导体发光装置。本发明的III族氮化物半导体发光装置在活性层(5)和p型包层(9)之间具备:由AlxGa1-x-yInyN(0<x<1、0<y<1、x+y<1)构成的中间层(7);和与中间层(7)相接,且由电子亲和力比所述中间层小的p型III族氮化物半导体构成的电子阻挡层(8)。半导体发光装置既可以是激光装置,也可以是LED。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体 发光 装置
【主权项】:
1.一种III族氮化物半导体发光装置,其中,具备:衬底;n型氮化物半导体层,其设于所述衬底上,由含有n型杂质的III族氮化物半导体构成,且具有n型包层;活性层,其设于所述n型氮化物半导体层上,带隙能量比所述n型包层小,且生成光;中间层,其设于所述活性层上或上方,且由AlxGa1-x-yInyN(0<x<1、0<y<1、x+y<1)构成;电子阻挡层,其设于所述中间层上,且由电子亲和力比所述中间层小的p型III族氮化物半导体构成;p型氮化物半导体层,其设于所述电子阻挡层上,由含有p型杂质的III族氮化物半导体构成,且具有带隙能量比所述活性层大的p型包层。
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