[发明专利]用于金属硅氮化物、氧化物或氮氧化物的ALD/CVD的Ti、Ta、Hf、Zr及相关金属硅氨化物

摘要

本发明涉及用于金属硅氮化物、氧化物或氮氧化物的ALD/CVD的Ti、Ta、Hf、Zr及相关金属硅氨化物，具体而言，所述金属硅氨化物为一种由下列结构表示的有机金属络合物：其中M是选自元素周期表4族的金属，R^1－4可以相同或不同，选自二烷基酰胺、二氟代烷基酰胺、氢、烷基、烷氧基、氟代烷基和烷氧基、环脂族基和芳基，额外条件是当R¹和R²是二烷基酰胺、二氟代烷基酰胺、烷氧基、氟代烷基和烷氧基时，它们可以连接成环。也公开了相关的化合物。还包括使用该络合物的CVD和ALD工艺。

主权项

1、一种由下列结构表示的有机金属络合物：其中M是选自元素周期表4族的金属，R^1-4可以相同或不同，选自二烷基酰胺、二氟代烷基酰胺、氢、烷基、烷氧基、氟代烷氧基、氟代烷基和烷氧基、环脂族基以及芳基，额外条件是当R¹和R²是二烷基酰胺、二氟代烷基酰胺、烷氧基、氟代烷氧基或氟代烷基时，它们可以连接成环。