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[发明专利]挥发性的二氢吡嗪基和二氢吡嗪金属配合物-CN201410363662.5有效
发明人： S·V·伊万诺夫;雷新建;J·A·T·诺曼 -专利权人：弗萨姆材料美国有限责任公司
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： C07F15/02 文献下载
摘要：本文描述了包含二氢吡嗪基阴离子的组合物，所述二氢吡嗪基阴离子可以作为6电子配体与范围广泛的不同金属配位，以产生用于ALD和CVD沉积的挥发性金属配合物。本文还描述了未去质子化的二氢吡嗪，其可以作为稳定化中性配体与金属配位。在一个实施方式中，使用所述组合物来直接液体注射递送金属二氢吡嗪基配合物前体至ALD室或CVD室中，用于沉积含金属薄膜，例如钌或钴金属膜。
挥发性二氢吡嗪基二氢吡嗪金属配合

[发明专利]用于直接液体注射的咪唑2族金属制剂-CN201310133103.0无效
发明人： J·A·T·诺曼;M·K·佩雷斯 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2013-04-01 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：含咪唑2族金属化合物的组合物，所述含咪唑2族金属化合物与适合的中性供体配体分子配合以提供在烃类溶剂中高度可溶的2族金属络合物。在一个实施方式中，该组合物用于2族前体的直接液体注射递送至ALD的室或CVD室中，用于沉积含2族金属薄膜例如STO和BST薄膜。
用于直接液体注射咪唑金属制剂

[发明专利]用于沉积含金属薄膜的金属-烯醇化物前体-CN201110399585.5有效
发明人： J·A·T·诺曼;雷新建 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2011-11-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C07F7/28 文献下载
摘要：本发明涉及用于沉积含金属膜金属薄膜的金属-烯醇化物前体。提供了适合作为用于含金属薄膜的蒸气相沉积前体的有机金属化合物。还提供了使用特定有机金属前体沉积含金属薄膜的方法。这些含金属薄膜可用于电子器件的制造。
用于沉积金属薄膜醇化物前体

[发明专利]挥发性的咪唑类和咪唑基II族金属前体-CN201110038355.6有效
发明人： J·A·T·诺曼;M·K·佩里兹;金武性 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2011-02-09 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C07D233/58 文献下载
摘要：本发明涉及挥发性的咪唑类和咪唑基II族金属前体。描述了立体位阻的咪唑配体以及它们的合成，所述咪唑配体能够以eta-5配位模式与II族金属(诸如钙、镁、锶)配位，这允许形成单体或二聚体挥发性络合物。一种包含与选自钡、锶、镁、镭或钙或其混合物的金属配位的一个或多个多取代的咪唑基配体阴离子的化合物。或者，一个阴离子可以被第二非咪唑基配体阴离子取代。本发明也涉及新化合物的合成及其用于形成BST膜的用途。
挥发性咪唑 ii 金属

[发明专利]用于沉积含第4族金属的薄膜的液体前体-CN201010584292.X有效
发明人： X·雷;J·A·T·诺曼;D·P·斯潘斯 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2010-12-07 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：本发明涉及由下式表示的液体第4族前体家族：(pyr*)M(OR1)(OR2)(OR3)，其中pyr*是烷基取代的吡咯基，其中M是第4族金属，包括Ti、Zr和Hf；其中R1-R 3可以相同或不同，选自直链或支链的C1-6烷基，优选C1-3烷基；R4选自C1-6烷基，优选在2，5-位取代的支链C3-5烷基以防止吡咯基以η1的方式与金属中心配位；n＝2、3、4。最优选地，本发明涉及(2，5-二叔丁基吡咯基)三(乙氧基)钛、(2，5-二叔戊基吡咯基)三(乙氧基)钛和(2，5-二叔戊基吡咯基)三(异丙氧基)钛。本发明还涉及(环戊二烯基)(2，5-二甲基吡咯基)(二(乙氧基))钛。本发明还包括使用这些化合物的沉积方法。
用于沉积金属薄膜液体

[发明专利]用于沉积含金属薄膜的含氨基醚的液体组合物-CN201010279948.7有效
发明人： S·V·伊瓦诺维;X·雷;D·P·斯潘斯;J·A·T·诺曼;L·M·马兹 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2010-09-08 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于沉积含金属薄膜的含氨基醚的液体组合物。一种制剂，包含：a)至少一种金属配体络合物，其中一种或多种配体选自β-二酮根、β-酮亚胺基、β-酮酸酯、β-二亚胺基、烷基、羰基、烷基羰基、环戊二烯基、吡咯基、醇根、脒基配体、咪唑基及其混合物；而且金属选自元素周期表的2-16族元素；和b)至少一种选自以下及其混合物的氨基醚：R1R2NR3OR4NR5R6、R1OR4NR5R6、O(CH2CH2)2NR1、R1R2NR3N(CH2CH2)2O、R1R2NR3OR4N(CH2CH2)2O、O(CH2CH2)2NR1OR2N(CH2CH2)2O，其中，R1-R6独立地选自C1-10直链烷基、C1-10支链烷基、C3-10环烷基、C6-C10芳香基、C1-10烷基胺、C1-10烷基氨基烷基、C2-10醚、C4-C10环醚、C4-C10环氨基醚及其混合物。
用于沉积金属薄膜氨基液体组合

[发明专利]挥发性的II族金属前体-CN201010195297.3有效
发明人： J·A·T·诺曼 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2010-05-31 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： C07F17/00 文献下载
摘要：本发明涉及挥发性的II族金属前体，即，包含与至少一种选自钡、锶、镁、镭或钙或其混合物的金属配位的一个或多个多官能化的吡咯阴离子的化合物。或者，一个阴离子可以被第二非吡咯阴离子取代。本发明也涉及新化合物的合成及其用于形成BST膜的用途。
挥发性 ii 金属

[发明专利]用于2族金属氧化物膜的沉积的2族金属前体-CN200910212005.X无效
发明人：雷新建;D·P·斯彭斯;J·A·T·诺曼;M·厄尔曼 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2009-11-06 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： C07C225/14 文献下载
摘要：本发明涉及含2族金属的多齿β-酮亚胺酸盐前体以及包括含2族金属的多齿β-酮亚胺酸盐前体的组合物，其中多齿β-酮亚胺酸盐前体将烷氧基引入到该分子的亚胺基部分中。化合物和组合物可用于采用化学蒸汽沉积(CVD)方法在基片如硅、金属氮化物、金属氧化物和其它金属层上制造含金属的膜。
用于金属氧化物沉积

[发明专利]用于在扩散阻挡层上的铜膜的粘合增强的材料-CN200910173396.9无效
发明人：程汉颂;雷新建;D·P·斯彭斯;J·A·T·诺曼;D·A·罗伯茨;韩波;周成刚;吴金平 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2009-08-14 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及用于在扩散阻挡层上的铜膜的粘合增强的材料。已经使用现有技术的计算化学技术来鉴定为铜种子层到粘合增进层以及粘合增进层到阻挡层提供良好粘合的粘合增进层材料。已经鉴定了导致在各种金属表面上提供铜层的优良粘合的因素以及发生铜膜附聚的环境。已经预测数种有前景的基于铬合金的粘合增进层材料能显著地增强铜膜的粘合。多齿β-酮亚胺盐的含铬络合物已被鉴定作为含铬前体用于制造具有铬的合金。
用于扩散阻挡粘合增强材料

[发明专利]用于薄膜沉积的铜前体-CN200810188741.1有效
发明人： J·A·T·诺曼;M·K·佩雷茨 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2008-11-05 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： C07F1/08 文献下载
摘要：本发明涉及用于薄膜沉积的铜前体，具体描述了无氟的铜前体，以及制备和使用相同前体的方法。在某些实例中，此处所描述的铜前体可以用作通过例如原子层沉积或者化学气相沉积条件来沉积铜膜或其合金至基底上的前体。
用于薄膜沉积铜前体

[发明专利]通过气相沉积形成连续铜薄膜的方法-CN200810210333.1无效
发明人： J·A·T·诺曼 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明描述了一种用于制备多层的基底的方法。在一个实例中，该方法提供了包含第一层和第二层的多层基体，其中该方法包含步骤：提供包含阻挡区域和铜区域的第一层；和沉积含铜的第二层至第一层上，其中该沉积提供了包含在阻挡区域上的约20埃到约2,000埃的第一厚度和在第一层中的铜区域上的约0埃到约1,000埃的第二厚度的第二层，其中第一厚度大于第二厚度。
通过沉积形成连续薄膜方法

[发明专利]用于化学气相沉积的金属前体溶液-CN200810109261.1无效
发明人：雷新建;L·J·奎恩;J·A·T·诺曼;W·F·小伯戈恩;G·S·拉尔;M·厄尔曼;D·P·斯彭斯 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2008-04-16 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：本发明描述了用于化学气相沉积的金属前体溶液，描述了包含前体液体溶液的金属源，其用于包括原子层沉积的化学气相沉积方法，以在基底上形成保形的含金属薄膜。更具体地，该金属源前体液体溶液由以下物质组成(i)至少一种金属络合物，其选自：β－二酮化物、β－酮亚胺化物、β－二亚胺化物、烷基金属、金属羰基、烷基金属羰基、芳基金属、芳基金属羰基、环戊二烯基金属、环戊二烯基金属异氰化物、环戊二烯基金属氰、环戊二烯基金属羰基、金属醇化物、金属醚醇化物、和金属酰胺，其中配体可以是与金属原子配位的单齿的、二齿的和多齿的，金属选自2到14族的元素，以及(ii)选自包括直链酰胺和环酰胺的有机酰胺的溶剂，以用于这种含金属源的前体。
用于化学沉积金属溶液

[发明专利]低温热传导性油墨-CN200810144625.X有效
发明人： J·A·T·诺曼;M·K·佩雷茨;R·K·小平斯米特 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2008-06-05 - 公布日： 2008-12-17 - 主分类号： C07C31/28 文献下载
摘要：本发明涉及低温热传导性油墨，具体公开了新型醇铜化合物基油墨配方以及它们的化学合成法。同样公开了使用所述油墨配方用标准喷墨打印来打印导电铜金属线并在＜150℃固化的方法。
温热传导性油墨

[发明专利]挥发性金属β－酮亚胺盐配合物-CN200710169694.1无效
发明人： J·A·T·诺曼 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2005-12-30 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： C07F1/08 文献下载
摘要：本发明涉及挥发性金属β－酮亚胺盐配合物。本文描述了含有铜、银、金、钴、钌、铑、铂、钯、镍、锇和/或铟的金属配合物，其制备及使用方法。在某些实施方案中，本文所述的金属配合物可以用作在基材上沉积金属或含金属的膜的前体，例如，通过原子层沉积或化学气相沉积方法沉积。
挥发性金属亚胺配合

[发明专利]挥发性金属β－酮亚胺盐配合物-CN200710169695.6无效
发明人： J·A·T·诺曼 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2005-12-30 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： C07F1/08 文献下载
摘要：本发明涉及挥发性金属β－酮亚胺盐配合物。本文描述了含有铜、银、金、钴、钌、铑、铂、钯、镍、锇和/或铟的金属配合物，其制备及使用方法。在某些实施方案中，本文所述的金属配合物可以用作在基材上沉积金属或含金属的膜的前体，例如，通过原子层沉积或化学气相沉积方法沉积。
挥发性金属亚胺配合

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