[发明专利]一种金属电容耦合OTP器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610119190.4 申请日: 2006-12-06
公开(公告)号: CN101197370A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 徐向明;龚顺强 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/822
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁;李隽松
地址: 201206上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种金属电容耦合OTP器件及其制造方法,该器件除包括常规的存储器晶体管(10)、多晶硅栅(9)外,利用MIM电容(11)代替常规OTP结构中的晶体管电容,该MIM电容的下极板(7)与多晶硅栅通过接触孔(6)相连,作为存储器晶体管的浮栅;MIM电容的上电极(8)取代常规的MOS的有源区,作为浮栅的控制端。本发明由于利用现有工艺中MIM电容,通过版图设计与低压逻辑晶体管共同构成OTP器件,并且本发明可完全保持现有MIM工艺不变,不用追加任何额外工艺的条件下,实现结构简单、编程效果良好、可靠性高的嵌入式OTP器件。
搜索关键词: 一种 金属 电容 耦合 otp 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种金属电容耦合OTP器件,包括存储器晶体管、多晶硅栅,其特征在于,还包括MIM电容,且所述多晶硅栅通过接触孔与所述MIM电容的下极板相连,作为所述存储器晶体管的浮栅;所述MIM电容的上电极作为所述浮栅的控制端。
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