[发明专利]布线基板及制法、电光学装置及制法、电子设备及制法无效

专利信息
申请号: 200610106428.X 申请日: 2006-07-13
公开(公告)号: CN1905200A 公开(公告)日: 2007-01-31
发明(设计)人: 汤田坂一夫 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/522;H01L29/786;H01L21/84;H01L21/768;H01L21/336;H05K1/02;H05K3/46
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种布线基板,其具备:基板(101)、形成于基板(101)上的第一布线(102)、第二布线(103)、形成于第一布线(102)与第二布线(103)之间并包含绝缘性材料的绝缘膜(104);在绝缘膜(104)的至少一部分与第一布线(102)之间形成有空间(105)。绝缘膜(104)的至少一部分与第一布线(102)相接,第二布线(103)的一部分位于空间(105)上。由此,不会使制造工序复杂,可以提高具有多层布线结构的布线基板的膜间绝缘性。
搜索关键词: 布线 制法 光学 装置 电子设备
【主权项】:
1.一种布线基板,具有:基体;第一膜;和第二膜,其形成于所述基体与所述第一膜之间,在所述第二膜的至少一部分与所述基体之间形成有空间。
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