[发明专利]具有多层互连的半导体器件无效

专利信息
申请号: 200610099688.9 申请日: 2006-06-29
公开(公告)号: CN1893068A 公开(公告)日: 2007-01-10
发明(设计)人: 松原义久 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00;H01L23/522
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 关兆辉;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体器件,具有能够防止因通过通路连接的如下微互连中产生的互连后退而引起的断路的构造,其中所述微互连具有等于或小于0.1μm的线宽。绝缘膜(204)形成在硅衬底(203)上,M1互连(103)和M2互连(104)交替布置在该区域中,并且这些互连通过通路(105)连接。这里,M1互连(103)和M2互连(104)的宽度都是70nm的最小线宽。在这种结构中,通路(105)的宽度与M1互连(103)和M2互连(104)的最小线宽相同,并且M1互连(103)和M2互连(104)通过多个通路(105)共同连接。
搜索关键词: 具有 多层 互连 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:多个宏电路,每个所述宏电路包括互连;以及耦合区,用于耦合所述多个宏电路的互连的端部,其中所述耦合区包括具有相同线宽的两层或多层所述互连,并且所述互连的端部通过多个通路连接。
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