[发明专利]真空处理设备及其操作方法

摘要

真空处理设备具有固定的处理室(24)和两个可移动的负荷锁定室(28a)和(28b)。将闸阀(26)提供到处理室(24)上，并且将闸阀(30)分别提供到负荷锁定室(28a)和(28b)。每个负荷锁定室(28a)和(28b)通过预备室移动机构(34)在Y方向上移动。真空密封(54)是可膨胀和收缩的，以便在膨胀期间将在设置为相互靠近的闸阀(26)和(30)之间的间隙真空密封，将该真空密封(54)提供在该处理室闸阀(26)的周边部分周围。而且，基底运输机构在设置为相互靠近的处理室(24)和每个负荷锁定室(28a)和(28b)之间运输基底(2)。

主权项

1.一种真空处理设备，包括：提供对基底的处理的处理室；处理室闸阀，其安装在所述处理室上，并且能够让所述基底穿过；多个可移动的负荷锁定室；多个预备室闸阀，每个预备室闸阀安装在相对应的负荷锁定室上，并且能够让所述基底穿过；预备室移动机构，其独立地或者以联锁的关系移动所述负荷锁定室，使得所述处理室闸阀和所述预备室闸阀相互靠近或者彼此离开；真空密封部分，其提供在所述处理室闸阀的周边部分中，并且是可膨胀和收缩的，以便在膨胀期间将在设置为相互靠近的所述处理室闸阀和所述预备室闸阀之间的间隙真空密封；基底运输机构，其在所述处理室闸阀和所述预备室闸阀设置为相互靠近的状态下，通过所述两个闸阀和所述真空密封部分在所述处理室和所述负荷锁定室之间运输所述基底；抽空每个所述负荷锁定室的抽空部分；以及使每个所述负荷锁定室通风的通风部分。