[发明专利]正型光致抗蚀剂剥离剂组合物

摘要

本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10－50重量％的有机胺；b)占0－70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20－90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01－10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗，特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。

主权项

1、一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，其特征在于：包括a)占10-50重量％的有机胺；b)占0-70重量％，以如下通式1表示的二甘醇单烷基醚；c)占20-90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01-10重量％，选自以如下通式2表示的醇烷氧基化合物及通式3所表示的环氧乙烷嵌段共聚物的至少一种非离子表面活性剂，其中所述通式分别为，[通式1]HOCH₂CH₂-O-CH₂CH₂-O-R₁，其中R₁是碳原子数为1-4的烷基；[通式2]其中，R是氢，或是碳原子数为6-12的烷基或苯基；m、n各为1～10的整数，表示环氧乙烷的摩尔数；[通式3]其中，R是氢，或是碳原子数为6-12的烷基；m是1～10的整数，表示环氧乙烷的摩尔数。