[发明专利]CMOS和沉积的光子有源层的单片式集成的布图有效

专利信息
申请号: 200580025394.5 申请日: 2005-07-28
公开(公告)号: CN101002325A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 卡洛斯·J·R·P.·奥古斯托 申请(专利权)人: 量子半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李德山
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了几个详细的布图设计,用于大阵列中雪崩器件的单片式集成,其可以只取决于所施加的偏压条件而用作雪崩光电二极管(APD)或雪崩发光二极管(ALED),所述偏压条件可以是由外围电路通过软件控制的。如果所沉积的膜具有直接能带隙,那么即使在没有雪崩操作时器件也可以发光。具体而言,根据本发明的布图包括通过复制基本像素/光素单元而获得的传感器/发光器矩阵。
搜索关键词: cmos 沉积 光子 有源 单片 集成
【主权项】:
1、一种包括在衬底上制造的像素矩阵的成像器件,其特征在于:该像素矩阵包括若干像素单元,每一个单元包括至少一个行选择晶体管和至少一个光子器件,每一个行选择晶体管和每一个光子器件都形成于所述衬底的有源区上,每一个光子器件都在与行选择晶体管的有源区相邻但分隔开的有源区上制造,对整个传感器/发射器矩阵上的所有光子器件共用的上部电极,通过所述上部电极所有光子器件都连接到相同电位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于量子半导体有限公司,未经量子半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580025394.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top