[发明专利]纳米结构的后沉积包封:组合物、器件及包含它们的系统有效
申请号: | 200580018708.9 | 申请日: | 2005-06-07 |
公开(公告)号: | CN101426639A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | J·A·怀特佛德;R·部鲁尔;M·布勒堤;陈建;K·C·克鲁登;段镶锋;W·P·弗里曼;D·希尔德;F·利昂;刘超;A·麦瑟;K·S·闵;J·W·帕斯;E·西尔 | 申请(专利权)人: | 奈米系统股份有限公司 |
主分类号: | B31B15/02 | 分类号: | B31B15/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了用来制备离散的涂覆纳米结构的配体组合物,以及涂覆纳米结构本身和包含它们的器件。还提供了在纳米结构上形成后沉积壳和对纳米结构进行可逆改性的方法。本发明的配体和涂覆的纳米结构特别适用于密堆积的纳米结构组合物,这种组合物能改善量子约束和/或减少纳米结构之间的交叉干扰。 | ||
搜索关键词: | 纳米 结构 沉积 组合 器件 包含 它们 系统 | ||
【主权项】:
1. 离散的涂覆纳米结构,它包含:具有第一表面的单个纳米结构;与单个纳米结构的第一表面缔合且具有第一光学、电学、物理或结构性质的第一涂层,其中所述第一涂层可转化成具有不同于第一涂层的光学、电学、物理或结构性质的第二涂层。
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