[发明专利]半导体制造气流分配系统和方法无效
| 申请号： | 200580010200.4 | 申请日： | 2005-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN1938661A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 阿里·沙吉;西达尔斯·纳加尔卡蒂 | 申请（专利权）人： | MKS仪器公司 |
| 主分类号： | G05D7/00 | 分类号： | G05D7/00;G05D11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 韩宏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于将单一气流分成两个或更多所需比例的次级气流的系统，包括：入口，适用于接收所述单一气流；至少两个次级流管线，与所述入口相连；输入装置，适用于接收至少一个所需流量比；至少一个原位工艺监视器，用于提供对由所述每条流管线产生的产品的测量；以及控制器，与所述输入装置和所述原位工艺监视器相连。该控制器被程序化用于：接收通过所述输入装置的所需的流量比；接收来自所述工艺监视器的产品测量值；基于所述的所需流量比和所述的产品测量值计算校正的流量比。如果产品的测量值是不相等的，那么校正的流量比将不同于所需的流量比。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 气流 分配 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于将单一流分成两个或更多所需比例的次级气流的系统，包括：入口，用于接收所述单一流；至少两个次级流管线，与所述入口相连；输入设备，用于接收至少一个所需流量比；至少一个原位工艺监视器，用于提供对由所述每条流管线产生的产品的测量；以及控制器，与所述输入设备和所述原位工艺监视器相连，并被程序化用于：接收通过所述输入装置的所需的流量比；接收来自所述工艺监视器的产品测量值；基于所述的所需流量比和所述的产品测量值计算校正的流量比。
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