[发明专利]高介电常数介电材料的稳定化方法

摘要

本发明公开了一种生成介电叠层的方法，其通过将基板暴露在一系列的沉积、氮化及退火处理中。在一实例中，提供一种方法其包含将该基板暴露在一沉积处理下以于其上生成一介电层；将该基板暴露在一氮化处理中，以在其上形成一氮化物层；将该基板暴露在一退火处理中及将该基板顺序暴露在该沉积及氮化处理中，同时周期性及间歇性地将该基板暴露在该退火处理中，以形成一具有预定厚度的介电叠层。一般来说，在氮化处理中使用一氮气等离子体以形成约5at％至约25at％的氮浓度。该介电层通常包含氧及至少一种选自铪、钽、钛、铝、锆、镧、硅及其之组合的元素。

主权项

1.一种在基板上形成介电叠层的方法，包括：在基板上沉积第一介电层；将所述第一介电层暴露于氮化处理中，以形成第一氮化层；在所述第一氮化层上沉积第二介电层；将所述第二介电层暴露于氮化处理中，以形成第二氮化层；以及以预定时间将所述基板暴露在退火处理中。