[实用新型]化学气相成膜装置及其下拉机构无效
| 申请号: | 200520018358.3 | 申请日: | 2005-05-08 |
| 公开(公告)号: | CN2789274Y | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
| 发明(设计)人: | 柯志伟 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王永红 |
| 地址: | 台湾省台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 一种化学气相成膜装置,适于对基板进行成膜制造工艺,此化学气相成膜装置包括气相成膜室与下拉机构,而此下拉机构具有基座、多条拉力线与多个支承单元。其中,多条拉力线实质上相互平行且设置于基座上,而每一拉力线之两端分别固定于基座之相对两侧。此外,每一支承单元包括顶销与下拉件,且顶销具有与基座接触之底端,而顶销底端之端面是圆弧面。因此,具有圆弧面底端之顶销在与基座接触时可减缓应力集中的现象,进而延长顶销之使用寿命。 | ||
| 搜索关键词: | 化学 相成 装置 及其 下拉 机构 | ||
【主权项】:
1.一种下拉机构,适用于化学气相成膜装置,其特征在于该下拉机构包括:基座;多条拉力线,实质上相互平行而设置于该基座上,其中各该拉力线之两端分别固定于该基座之相对两侧;多个支承单元,各该支承单元包括:顶销,位于上述这些拉力线之间,且该顶销具有用以支承基板之支承端以及用以与该基座接触之底端,其中该底端之端面圆弧面;以及下拉件,套置于该顶销上,并位于上述这些拉力线与该基座之间,以通过该拉力线之下拉而带动该顶销下降。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





