[实用新型]化学气相沉积室的多区域加热台座无效

专利信息
申请号: 200520011077.5 申请日: 2005-04-04
公开(公告)号: CN2825652Y 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 约翰·M·怀特;恩斯特·凯勒 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/46
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 代理人: 刘亚文
地址: 美国加利福尼亚州CA9*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种化学气相沉积室的多区域加热台座,用于处理基板,其中该台座用于支撑该基板,并包括台座轴,用于将台座在沉积室内沿垂直方向移动,其具有平台,具有第一半部及第二半部;第一外区加热器,埋设于该平台的第一半部的周边;第一内区加热器,埋设于该平台由该第一外区加热器所围绕的范围内,且远离该第一外区加热器;第二外区加热器,埋设于该平台的第二半部的周边;及第二内区加热器,埋设于该平台由该第二外区加热器所围绕的范围内,且远离该第二外区加热器。
搜索关键词: 化学 沉积 区域 加热 台座
【主权项】:
1.一种化学气相沉积室的多区域加热台座,用于处理基板,其中该台座用于支撑该基板,并包括台座轴,用于将台座在沉积室内沿垂直方向移动,其特征是具有:平台,具有第一半部及第二半部;第一外区加热器,埋设于该平台的第一半部的周边;第一内区加热器,埋设于该平台由该第一外区加热器所围绕的范围内,且远离该第一外区加热器;第二外区加热器,埋设于该平台的第二半部的周边;及第二内区加热器,埋设于该平台由该第二外区加热器所围绕的范围内,且远离该第二外区加热器。
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