[发明专利]波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法无效
申请号: | 200510134657.8 | 申请日: | 2005-12-13 |
公开(公告)号: | CN1983023A | 公开(公告)日: | 2007-06-20 |
发明(设计)人: | 吉田辉昭 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法。本发明的课题是提供可以有效地且高精度地进行波纹缺陷检查的波纹缺陷检查方法。作为解决手段,波纹缺陷检查方法,检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的光掩模(50)的上述重复图形中产生的波纹缺陷,在利用图形信息获取装置(20)的摄像机(21)拍摄到的光掩模的整体图像中,指定具有成为波纹缺陷检查的对象的重复图形的区域作为检查区域,从该检查区域中的重复图形的利用显微镜(22)拍摄到的图像中获取相关重复图形的图形信息,根据该图形信息确定通过波纹缺陷检查装置(10)进行波纹缺陷检查的检查条件,由上述波纹缺陷检查装置根据该检查条件实施波纹缺陷检查。 | ||
搜索关键词: | 波纹 缺陷 检查 方法 系统 光掩模 制造 | ||
【主权项】:
1.一种波纹缺陷检查方法,检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的被检查体的上述重复图形中产生的波纹缺陷,其特征在于,在上述被检查体的整体图像中指定成为波纹缺陷检查的检查对象的检查区域,从该检查区域中的上述重复图形的图像中获取相关重复图形的图形信息,根据该图形信息确定波纹缺陷检查的检查条件,根据该检查条件实施波纹缺陷检查。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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