[发明专利]宽频域的硅基微机械可调谐光滤波器的制作方法无效

专利信息
申请号: 200510126325.5 申请日: 2005-12-07
公开(公告)号: CN1979256A 公开(公告)日: 2007-06-13
发明(设计)人: 左玉华;毛容伟;王良臣;成步文;余金中;王启明 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02F1/015 分类号: G02F1/015;G02F1/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种宽频域的硅基微机械可调谐光滤波器的制作方法,包括如下步骤:在基片上制作第一电极,并且在电极层中制作电极引线引出孔;在第一电极上制作第一反射镜,是滤波器必备的反射镜之一;在第一反射镜上制作牺牲层,在牺牲层上制作第二反射镜,该反射镜和上述第一反射镜以及牺牲层释放后形成的空气腔形成滤波选模结构;在第二反射镜上制作第二电极及控制应力的薄膜层;腐蚀释放牺牲层,释放后形成的空气腔,当在上述第一电极和第二电极之间施加电压时由于静电吸引作用导致空气腔的厚度发生变化,滤波器的透射模式也随之变化,从而具备波长可调的选模作用。
搜索关键词: 宽频 微机 调谐 滤波器 制作方法
【主权项】:
1、一种宽频域的硅基微机械可调谐光滤波器的制作方法,采用了低温表面微机械工艺,整个工艺温度不超过300℃;其特征在于,其制作方法包括如下步骤:a)在基片上制作第一电极,此电极是产生静电吸引作用的其中一个电极板,并且在电极层中制作电极引线引出孔;b)在第一电极上制作第一反射镜,是滤波器必备的反射镜之一;c)在第一反射镜上制作牺牲层,该牺牲层的厚度决定着滤波器的工作模式,当释放后形成的空气腔构成滤波器的谐振腔体;d)在牺牲层上制作第二反射镜,该反射镜和上述第一反射镜以及牺牲层释放后形成的空气腔形成滤波选模结构;e)在第二反射镜上制作第二电极及控制应力的薄膜层;f)腐蚀释放牺牲层,释放后形成的空气腔,当在上述第一电极和第二电极之间施加电压时由于静电吸引作用导致空气腔的厚度发生变化,滤波器的透射模式也随之变化,从而具备波长可调的选模作用。
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