[发明专利]含碳的溅射靶合金组合物

摘要

本发明提供了溅射靶材料，该溅射靶材料包括含Cr－C、Cr－M－C或Cr－M1－M2－C的合金体系，其中C占至少0.5到至多20原子％；M占至少0.5到至多20原子％并且是选自Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的元素；M₁占至少0.5到至多20原子％并且是选自Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的元素；且M₂占至少0.5到至多10原子％并且是选自Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y和Te的元素。本发明还提供了包括衬底和至少底层的磁记录介质，所述底层包括本发明的溅射靶材料。本发明进一步提供了生产溅射靶材料的方法。该方法可使用包括元素组合的粉末材料，所述材料可包括铬合金、碳化物或含碳母合金。

主权项

1.包括合金体系的溅射靶材料，所述合金体系包括Cr-C、Cr-M-C或Cr-M1-M2-C，其中C占至少0.5到至多20原子％；M占至少0.5到至多20原子％并且是选自Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的元素；M1占至少0.5到至多20原子％并且是选自Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的元素；且M2占至少0.5到至多10原子％并且是选自Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y和Te的元素。