[发明专利]曝光装置及图形形成方法有效
| 申请号： | 200510081105.5 | 申请日： | 2005-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1885167A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | 伊藤三好 | 申请（专利权）人： | 集成方案株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;张惠萍 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是一种利用曝光光学系统使激光光束对玻璃基板进行相对扫描，在该玻璃基板上使功能图形直接曝光的曝光装置，该装置具备：在所述比例基板的输送方向上将所述激光光束的扫描位置的面前一侧作为摄像位置，拍摄在所述玻璃基板上预先形成的黑底的像素的摄像装置；对所述黑底的像素进行照明，使所述摄像装置能进行摄像的照明手段；以及检测出用所述摄像装置摄得的预先设定在所述像素上的基准位置，并以该基准位置为基准控制所述激光光束的开始照射或停止照射的控制手段。通过这样，在提高功能图形的叠合精度之同时，还能抑制曝光装置成本的增加。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 图形 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，利用曝光光学系统使光束对被曝光体相对扫描，将功能图形直接曝光到被曝光体上，其特征在于，该装置包括：在所述被曝光体的输送方向上将所述光束的扫描位置的面前一侧作为摄像位置，拍摄预先在所述被曝光体上形成的成为曝光位置的基准的功能图形的摄像手段；对成为所述基准的功能图形进行照明，使所述摄像手段能进行摄像的照明手段；以及检测出用所述摄像手段摄得的预先设定在成为所述基准的功能图形上的基准位置，并以该基准位置为基准控制所述光束的开始照射或停止照射的光学系统控制手段。
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