[发明专利]研磨液组合物有效
| 申请号： | 200510064805.3 | 申请日： | 2005-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN1680509A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 本间祐一;平幸治;高阶重昭 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水的研磨液组合物，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％；涉及一种基板的制造方法，其包括将上述研磨液组合物引入到基板与研磨垫之间，使其一边与所述基板接触，一边进行研磨的工序；还涉及一种减少被研磨基板的划痕的方法，其包括使用上述研磨液组合物对被研磨基板进行研磨的工序。本发明的研磨液组合物，例如适用于磁盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光盘、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1.一种研磨液组合物，其包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％。
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