[发明专利]用于形成精细图形的助剂及其制备方法有效
| 申请号： | 200480007775.6 | 申请日： | 2004-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN1764675A | 公开（公告）日： | 2006-04-26 |
| 发明（设计）人： | 西川雅人;高桥清久 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(日本)株式会社 |
| 主分类号： | C08F16/00 | 分类号： | C08F16/00;C08F8/00;C08L29/00;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明用保护基团保护的改性聚乙烯醇(PVA)是一种这样的聚乙烯醇：其中改性聚乙烯醇中，根据凝胶渗透色谱法由聚乙二醇标准测定的重均分子量为250,000或更高的改性聚乙烯醇的高分子量主体成分的数量为1000ppm或更少。用离子交换处理，然后在80℃或更高的温度下热处理，通过从改性PVA例如缩醛化PVA除去金属离子和酸来制备改性PVA。用于本发明精细图形形成的助剂包含上述改性PVA，水溶性交联剂，和水或水与水溶性有机溶剂的混合溶剂。在抗蚀图形(3)上涂覆用于精细图形形成的助剂，在上面形成了涂层(4)。然后将抗蚀图形(3)和涂层(4)进行加热，从而酸从抗蚀图形(3)扩散入涂层(4)中。结果抗蚀图形表面附近处的涂层被扩散出的酸交联和固化。涂层显影，在抗蚀图形上形成了有交联和固化层的孔状图形，孔径小于曝光波长的极限分辨率，且无显影缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 精细 图形 助剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于精细图形形成的助剂，包含用保护基团保护的改性聚乙烯醇，水溶性交联剂，和水或水与水溶性有机溶剂的混合溶剂，其中在改性聚乙烯醇中用保护基团保护的改性聚乙烯醇的高分子量主体成分的数量为1000ppm或更少，高分子量主体成分的重均分子量为250,000或更高，根据凝胶渗透色谱法由聚乙二醇标准测定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料(日本)株式会社，未经AZ电子材料(日本)株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480007775.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
