[发明专利]静电放电保护器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410102193.8 申请日: 2004-12-15
公开(公告)号: CN1630079A 公开(公告)日: 2005-06-22
发明(设计)人: 金容顿;吴钟欢 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L29/78
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 郭定辉;黄小临
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种静电放电保护器件及其制造方法,包括衬底、形成在衬底中的n阱、形成在n阱上的p阱、形成在p阱上的NMOS晶体管、以及形成在p阱中的接地p+阱拾取器,该NMOS晶体管包括栅极电极、n+源极和n+漏极,其中n阱连接至NMOS晶体管的n+漏极,且n+源极接地。连接n+漏极和n阱,从而减小触发电压和衬底表面的电流密度。
搜索关键词: 静电 放电 保护 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种静电放电保护器件,包括:衬底;n阱,形成在衬底中;p阱,形成在n阱上;NMOS晶体管,形成在p阱上,该NMOS晶体管包括栅极电极、n+源极和n+漏极;以及接地p+阱拾取器,形成在p阱中,其中n阱连接至NMOS晶体管的n+漏极,且n+源极接地。
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