[发明专利]一种铝材料X射线组合透镜的制作方法

摘要

一种铝材料X射线组合透镜的制作方法，包括以下步骤：在硅衬底的表面覆涂料，烘烤固化；在样片表面生长电铸阴极薄膜；在电铸阴极薄膜表面涂覆光刻胶，进行光刻、显影、坚模；在光刻胶图形结构上生长金属薄膜；去除光刻胶及电铸阴极薄膜；背面光刻并腐蚀硅衬底形成窗口，作为X射线光刻掩模；制备钛片作为X射线光刻衬底，用NaOH/H₂O₂进行表面处理；在表面涂敷X射线光刻胶，对上述光刻胶进行烘烤固化，形成X射线光刻基体；在X射线光刻基体上进行X射线光刻、显影，使用X射线光刻掩模；将硅橡胶填充到样片结构中，进行固化处理；在取下的硅橡胶模具中填充铝材料，固化后分离出模具，所保留的结构包括刻度底盘，透镜主体，空气隙。

主权项

1、一种铝材料X射线组合透镜的制作方法，其特征在于：包括有X射线光刻掩模的制备、X射线光刻基体的准备和最后铝材料透镜的形成；(一)X射线光刻掩模的制备包括以下步骤：(A)在经常规清洁处理的硅衬底的表面自旋涂覆一层聚酰亚胺涂料，烘烤固化；(B)在固化后的样片表面生长一层金属材料的电铸阴极薄膜；(C)在电铸阴极薄膜表面涂覆一层AZP4000光刻胶，对上述光刻胶进行光刻、显影、坚模，形成光刻胶图形结构；(D)在光刻胶图形结构上生长一层金属薄膜，所述金属薄膜材料为金，其厚度小于光刻胶的厚度；(E)去除光刻胶及其下面的电铸阴极薄膜；(F)进行背面光刻并腐蚀硅衬底形成窗口，将开出窗口后的结构作为X射线光刻掩模；(二)X射线光刻基体的准备包括以下步骤：(G)制备一份钛片作为X射线光刻衬底，用NaOH/H2O2进行表面处理；(I)在经处理的钛片表面涂敷PMMA作为X射线光刻胶，其厚度按所设计的X射线组合透镜的厚度设定，范围在500微米到2000微米，对上述光刻胶进行烘烤固化，形成X射线光刻基体；(三)最后铝材料透镜的形成：(J)在步骤(I)形成的X射线光刻基体上进行X射线光刻、显影，使用步骤(F)形成的X射线光刻掩模；(K)将模具材料填充到步骤(J)形成的样片结构中，模具材料为硅橡胶，并进行固化处理；(L)取下固化成型的硅橡胶模具；(M)在硅橡胶模具中填充铝材料，固化后并分离出模具，这时所保留的结构包括有刻度底盘(1)，透镜主体(2)，以及由它们共同形成的空气隙(3)，即制成为铝材料X射线组合透镜。