[发明专利]研磨液组合物

摘要

一种存储硬盘用基板的研磨液组合物，含有水和二氧化硅粒子，其中二氧化硅粒子具有如下的粒径分布，其中，粒径(R)和累积体积频率(V)的关系满足式(1)和式(2)，该关系体现在粒径一累积体积频率的图中，该图通过绘制二氧化硅粒子的累积体积频率(％)来得到，该二氧化硅粒子的累积体积频率通过相对于二氧化硅粒子的粒径(nm)的小粒径一侧来计算；并且其中，在90％的累积体积频率(D₉₀)的粒径为大于等于65nm并且小于105nm。通过使用本发明的研磨组合物，可以有效制备镀Ni－P的磁盘用基板，该基板磨后具有良好的表面光滑性，其中，微凹坑被有效减少。

主权项

1、一种研磨液组合物，是含有水和二氧化硅粒子而成的、用于存储硬盘用基板的研磨液组合物，上述二氧化硅粒子，将从相对于通过透射式电子显微镜(TEM)观察测定得到的该二氧化硅粒子的粒径(nm)为小粒径的一侧的累积体积频率(％)绘图，在得到的该二氧化硅粒子的粒径对累积体积频率曲线图中，粒径5-40nm范围的累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(1)：V≤2×(R-5) (1)和粒径20-40nm范围的累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(2)：V≥0.5×(R-20) (2)且累积体积频率为90％的粒径(D90)在65nm或以上不足105nm的范围。