[发明专利]形成防反射膜的组合物无效
申请号: | 03816991.6 | 申请日: | 2003-07-11 |
公开(公告)号: | CN1668982A | 公开(公告)日: | 2005-09-14 |
发明(设计)人: | 岸冈高广;荒濑慎哉;水沢贤一;中山圭介 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种包含由羟基烷基和烷氧基烷基取代的尿素化合物以及优选含有吸光性化合物和/或吸光性树脂的形成防反射膜的组合物、采用该组合物的半导体装置防反射膜的形成方法,以及采用该组合物的半导体装置的制造方法。本发明的组合物相对半导体装置制造中使用的波长的光具有良好的光吸收性,因此,具有较高的防反射光效果,此外具有比光致抗蚀剂层更大的干蚀刻速度。 | ||
搜索关键词: | 形成 反射 组合 | ||
【主权项】:
1.一种形成防反射膜的组合物,其包含以下式(1)所示的化合物,
式(1)(式中,R1和R2分别独立地表示氢原子或烷基,R3和R4分别独立地表示氢原子、甲基、乙基、羟基甲基或烷氧基甲基)。
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