[发明专利]图形形成方法和衬底处理装置无效
| 申请号： | 03150313.6 | 申请日： | 2003-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN1479172A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 早崎圭;伊藤信一;竹石知之;川野健二;江间达彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种图形形成方法，其特征在于：具备：在衬底上形成感光性树脂膜的工序；使上述感光性树脂膜曝光的工序；向上述感光性树脂膜上供给显影液，形成上述感光性树脂膜的图形的工序；采用使已活性化的水与上述图形接触的办法，进行除去上述图形的表层的细化处理的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 形成 方法 衬底 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图形形成方法，其特征在于：包括：在衬底上形成感光性树脂膜的工序；使上述感光性树脂膜曝光的工序；向上述感光性树脂膜上供给显影液，形成上述感光性树脂膜的图形的工序；和通过使已活性化的水与上述图形接触，进行除去上述图形的表层的细化处理的工序。
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