[发明专利]磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法无效
| 申请号： | 02154315.1 | 申请日： | 2002-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1422922A | 公开（公告）日： | 2003-06-11 |
| 发明（设计）人： | 石桥智明 | 申请（专利权）人： | 不二见株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种磁盘基材的抛光组合物,它含有(a)抛光促进剂,该促进剂包含至少一种选自苹果酸、乙醇酸、丁二酸、柠檬酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、葡萄糖酸、乳酸、扁桃酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、硫酸铝和硝酸铁(III)的化合物；(b)边缘下陷阻止剂,该阻止剂含有至少一种选自聚乙烯基吡咯烷酮、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯和聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯的化合物；(c)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛和碳化硅的研磨剂,和(d)水。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 基材 抛光 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘基材的抛光组合物，它含有：(a)抛光促进剂，该促进剂包含至少一种选自苹果酸、乙醇酸、丁二酸、柠檬酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、葡萄糖酸、乳酸、扁桃酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、硫酸铝和硝酸铁(III)的化合物；(b)边缘下陷阻止剂，该阻止剂含有至少一种选自聚乙烯基吡咯烷酮、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯和聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯的化合物；(c)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛和碳化硅的研磨剂，和(d)水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于不二见株式会社，未经不二见株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02154315.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：空调设备及其控制方法
- 下一篇：阳离子涂料组合物
