[发明专利]化学放大型正性光刻胶组合物有效
| 申请号： | 02145886.3 | 申请日： | 2002-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1412619A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 中西润次;难波克彦 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了能够在保持高分辨率的同时获得高感光性的化学放大型正性光刻胶组合物，包括(A)下式(I)的化合物其中，R1表示任选具有含氧原子或氮原子的取代基或任选被卤素原子取代的烃基；(B)本身在碱水溶液中不溶或溶解性低但通过酸的作用而变成在碱水溶液中可溶的树脂；和(C)季铵盐。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1、化学放大型正性光刻胶组合物，包括：(A)下式(I)的化合物：其中，R1表示任选地具有含氧原子或氮原子的取代基或任选地被卤素原子取代的烃基；(B)本身在碱水溶液中不溶或溶解性低但通过酸的作用而变成在碱水溶液中可溶的树脂；和(C)季铵盐。
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