[发明专利]一种金刚石／碳或氮化物纳米混相梯度复合薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 02132885.4 | 申请日： | 2002-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN1482275A | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 姜辛 | 申请（专利权）人： | 姜福英;姜辛 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 110001辽宁省沈*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种金刚石/碳或氮化物纳米混相梯度复合薄膜的制备方法，其特征在于：以H2、含有可形成碳化物XC或氮化物XN的有机气体或无机气体的多相混合气体为原料，其中H∶C(N)∶X＝1∶0.005～0.1∶0.005～0.02，X选自硅或钛，采用化学气相沉积过程制备金刚石/碳化物纳米混相梯度复合薄膜。本发明可以有效地解决金刚石薄膜与金属基体间的结合问题，从而使得金刚石薄膜在工业中的应用成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金刚石 氮化物 纳米 梯度 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种金刚石/碳或氮化物纳米混相梯度复合薄膜的制备方法，其特征在于：以H2、含有可形成碳化物XC或氮化物XN的有机气体或无机气体的多相混合气体为原料，其中H∶C(N)∶X＝1∶0.005～0.1∶0.005～0.02，X选自硅或钛，采用化学气相沉积过程制备金刚石/碳化物纳米混相梯度复合薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
