[发明专利]梯度线圈及磁共振成像系统在审

专利信息
申请号: 201911189207.7 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN112858972A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 岳振华;彭卫平 申请(专利权)人: 西门子(深圳)磁共振有限公司
主分类号: G01R33/385 分类号: G01R33/385;G01R33/561
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明实施例中公开了一种梯度线圈及磁共振成像系统。其中的梯度线圈支持两种梯度模式:第一梯度模式和第二梯度模式;其中,在第一梯度模式下,提供具有第一最大梯度切换率的梯度场;在第二梯度模式下,提供具有第二最大梯度切换率的梯度场;所述第二梯度切换率大于所述第一梯度切换率。本发明实施例中的技术方案,能够减少扫描时间。
搜索关键词: 梯度 线圈 磁共振 成像 系统
【主权项】:
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  • 刘河生;陈铁铮;陈卓玉;赵岩;马锐;刘旋 - 北京昌平实验室
  • 2022-11-11 - 2023-03-28 - G01R33/385
  • 本发明公开了一种核磁共振成像系统的梯度线圈,包括:射频屏蔽层;初级绕组层,包围在射频屏蔽层的外部,初级绕组层包括三个目标轴初级绕组,三个目标轴初级绕组分别为X目标轴初级绕组、Y目标轴初级绕组以及Z目标轴初级绕组,各个目标轴初级绕组均具有多层初级线圈,且同一目标轴初级绕组中的多层初级线圈沿梯度线圈的径向层叠设置;屏蔽绕组层,包围在初级绕组层的外部,屏蔽绕组层包括三个目标轴屏蔽绕组,三个目标轴屏蔽绕组分别为X目标轴屏蔽绕组、Y目标轴屏蔽绕组以及Z目标轴屏蔽绕组;被动匀场层,设于初级绕组层和屏蔽绕组层之间。本发明可以同时满足高性能梯度线圈的小型化、轻量化、阻抗值小的要求。
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