[发明专利]影像感测器的制作方法有效
申请号: | 02103356.0 | 申请日: | 2002-01-30 |
公开(公告)号: | CN1435876A | 公开(公告)日: | 2003-08-13 |
发明(设计)人: | 陈则敬;陈庆忠;林东和;林震宾;林启荣 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波,侯宇 |
地址: | 台湾省新竹科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明揭露一种影像感测器(imagesensor)的制作方法。该影像感测器制作于一包括一感测器阵列区域的半导体基底上。首先在该半导体基底上形成一R/G/B彩色滤光阵列(colorfilterarray,CFA),然后在该彩色滤光阵列上形成一间隔层,再在该间隔层上形成多个聚光镜,其中该彩色滤光阵列以及该聚光镜是设置于相对应的该感测器阵列区域上方,之后涂布一缓冲层填入相邻两聚光镜之间的空间,并在该缓冲层以及该聚光镜上方沉积一保护层,该保护层的形成温度需在300℃以下,以避免影响该彩色滤光阵列。 | ||
搜索关键词: | 影像 感测器 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种在一半导体基底上制作一影像感测器(imagesensor)的方法,其中该半导体基底包括一感测器阵列(sensorarray)区域,该方法包括下列步骤:在该半导体基底上形成一平坦化层(planarizinglayer);在该平坦化层上形成一R/G/B彩色滤光阵列(colorfilterarray,CFA),其中该彩色滤光阵列设置于相对应的该感测器阵列区域上方;在该间隔层上形成多个聚光镜(U-lens),其中该聚光镜设置于相对应的该彩色滤光阵列上方,且相邻两聚光镜之间有一空间;涂布一缓冲层(bufferlayer),填入相邻两聚光镜之间的空间;以及在该缓冲层以及该聚光镜上方沉积一保护层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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