[发明专利]含有光刻胶组合物的多层元件及其在显微光刻中的应用

摘要

一种光刻胶元件，包含衬底；抗蚀刻层；和由包含聚合物的光刻胶组合物制备的至少一种光刻胶层，所述聚合物选自：(a)含有衍生自至少一种烯属不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物为多环的；(b)含有被保护酸基的支化聚合物，所述聚合物含有沿直链主链段化学连接的一个或多个支链段；(c)带有具有以下结构的至少一个氟代醇基的氟聚合物：－C(R_f)(R_f’)OH，其中R_f和R_f’为相同或不同的1到约10个碳原子的氟烷基，或一起为(CF₂)_n，其中n为2到10；(d)全氟(2，2－二甲基－1，3－间二氧杂环戊烯)或CX₂＝CY₂的非晶态乙烯基均聚物，其中X＝F或CF₃和Y＝－H；或全氟(2，2－二甲基－1，3－间二氧杂环戊烯)与CX₂＝CY₂的非晶态乙烯基共聚物；以及(e)由取代的或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟代醇聚合物；和(B)至少一种光敏成分。

主权项

1.一种光刻胶元件，包含：(L)衬底；(M)抗蚀刻层；和(N)由光刻胶组合物制备的至少一种光刻胶层，所述组合物包含：(A)至少一种聚合物，所述聚合物选自：(a)含有衍生自至少一种烯属不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物为多环的；(b)含有被保护酸基的支化聚合物，所述聚合物含有沿直链主链段化学连接的一个或多个支链段；(c)带有具有以下结构的至少一个氟代醇基的氟聚合物： -C(Rf)(Rf’)OH其中Rf和Rf’为相同或不同的1到约10个碳原子的氟烷基，或一起为(CF2)n，其中n为2到10；(d)全氟(2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯)或CX2＝CY2的非晶态乙烯基均聚物，其中X＝F或CF3和Y＝-H；或全氟(2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯)与CX2＝CY2的非晶态乙烯基共聚物；以及(e)由取代的或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟代醇聚合物；和(B)至少一种光敏成分。