[发明专利]化学气相沉积的排气处理回收的方法及装置无效
| 申请号： | 01123256.0 | 申请日： | 2001-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1398661A | 公开（公告）日： | 2003-02-26 |
| 发明（设计）人： | 石原良夫;大见忠弘 | 申请（专利权）人： | 日本酸素株式会社;大见忠弘 |
| 主分类号： | B01D53/68 | 分类号： | B01D53/68;C30B25/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 巫肖南 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学气相沉积(CVD)排气的处理回收方法及装置，是将化学气相沉积排气中所含有的原料气体或中间产物转化反应成高挥发性的卤化物，以防止排气系统管路的附着、堆积、可将具有再利用价值的资源进行分离回收、以及减少保养维护。将化学气相沉积排气中所含有的原料气体与中间产物进行分解处理或转化反应处理，待一部分分解后，即进行氢卤化硅气体与氯化氢的分离回收。又，原料气体及中间产物也可完全分解成氯化氢再进行回收。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 排气 处理 回收 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种CVD排气的处理回收方法，该方法适用于使用氢卤化硅气体形成的硅薄膜对由化学气相沉积装置所排出气体的处理，其特征在于该方法包括：对该排气中含有的未反应的原料气体与中间产物，使用过渡金属反应剂在常温至摄氏500度之间进行热脱附，经分解处理或转化反应处理分解一部分之后，对该氢卤化硅气体与氯化氢气体进行分离回收。
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