[发明专利]化学放大型正光刻胶组合物无效
| 申请号： | 01102176.4 | 申请日： | 2001-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN1312488A | 公开（公告）日： | 2001-09-12 |
| 发明（设计）人： | 上谷保则;金晟贤;高田佳幸 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李悦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有良好灵敏度和分辨率以及其它光刻胶性能特性的化学放大型正光刻胶组合物,其含有树脂(X)和产酸剂(Y),其中该树脂具有上式(Ⅰ)所示的聚合单元、上式(Ⅱ)所示的聚合单元(如说明书所定义),和衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的聚合单元。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1．一种化学放大型正光刻胶组合物，含有树脂(X)，其本身不溶于碱或微溶于碱，但当被酸作用后可溶于碱，其具有(a)一种衍生于1-金刚烷基-1-烷基烷基(甲基)丙烯酸酯的聚合单元，由下式(Ⅰ)表示：其中，R1表示氢或甲基，R2和R3分别独立地表示具有1-4个碳原子的烷基，R4和R5分别独立地表示氢、羟基或烷基，(b)衍生于脂环烯烃的聚合单元，由下式(Ⅱ)表示：其中R6、R7分别表示氢、具有1-3个碳原子的烷基，具有1-3个碳原子的羟基烷基，羧基，氰基，或-COOR8表示的基团，其中R8表示醇残基，或R6和R7一起形成由-C(=O)OC(=O)-表示的羧酸酐残基，和(c)衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的聚合单元；和产酸剂(Y)。
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